A.唇系带附着过低形成间隙
B.侧切牙先天缺失使中切牙出现间隙
C.吮指习惯使前牙出现间隙
D.侧切牙牙胚挤压中切牙牙根形成间隙
E.多生牙,牙瘤的存在导致
A.硅的导电性能介于金属和绝缘体之间,是良好的半导体材料
B.硅是非金属元素,但它的单质具有金属光泽
C.二氧化硅的化学性质不活泼,常温下难与盐酸起反应
D.自然界中存在大量单质硅,其含量仅次于氧
A.又称之为天青杀素或CAP37
B.是丝氨酸蛋白酶同族物质(惰性的)
C.储存在中性粒细胞中,并由其释放
D.无杀菌作用
E.与LPS相结合(脂多糖),诱导血管渗漏和组织水肿
如下列举各条中,哪一条不是双膜模型的基本假设?()。
A.气、液界面两侧存在气膜层和液膜层
B.吸收质以分子扩散方式通过气膜层和液膜层
C.吸收质在两相界面上处于平衡状态
D.易溶气体的溶解过程不存在液膜阻力,难溶气体的溶解过程不存在气膜阻力