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简述双阱CMOS工艺制作CMOS反相器的工艺流程过程。

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第1题

不属于典型的CMOS集成电路的是（）。

A.CMOS反相器

B.CMOS逻辑门

C.CMOS传输门

D.双阱CMOS

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第2题

简述CMOS工艺的基本工艺流程。

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第3题

简述cmOS工艺流程。简述cmOS集成电路制造的过程中需要重复进行的工艺步骤。

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第4题

简述CMOS工艺流程。简述CMOS集成电路制造的过程中需要重复进行的工艺步骤。

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第5题

简述CMOS工艺布局与设计准则。

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第6题

描述你对集成电路工艺的认识。列举几种集成电路典型工艺。工艺上常提到0.25，0.18指的是什么？简述cmOS工艺技术的发展趋势。

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第7题

比较CMOS工艺和GaAs工艺的特点。

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第8题

说出多晶硅在CMOS工艺中的作用。

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第9题

为什么硅栅工艺取代铝栅工艺成为CMOS工艺的主流技术?

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第10题

对于传感器CCD与CMOS区别，以下描述正确的是CMOS的工艺简单，成本比CCD低、CCD的色彩还原好，曝光比较好。（）

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