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[判断题]

低阻衬底上生长高阻外延层称为正向外延。()

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第1题

通常称在低阻衬底材料上生长高阻外延层的工艺为正向外延，反之称为反向外延。（）

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第2题

异质外延对衬底和外延层有什么要求？

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第3题

外延在半导体生产中的作用是()。

A.实现杂质浓度突变

B.优化衬底材料性能

C.设计更加灵活

D.让硅片更厚

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第4题

什么是扩散效应？什么是自掺杂效应？这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化？

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第5题

福建在承接LED产业链时，最先引进的一般是（）

A.衬底制备

B.外延片制造

C.LED芯片生产

D.应用产品生产

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第6题

硅气相外延工艺采用的衬底不是准确的晶向，通常偏离（100）或（111）等晶向一个小角度，为什么？

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第7题

外延层的迁移率低的因素有原材料纯度（）；反应室漏气；外延层的晶体（）；系统沾污等；载气纯度不够；外延层晶体缺陷多；生长工艺条件不适宜。

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第8题

第Ⅳ类边界Nd2Fe14B晶粒外延层KⅡ值低，是造成磁体实际矫顽力（）的重要原因。

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第9题

根据外延层工艺中反应物的状态，可以将外延分为()。

A.汽相外延

B.固相外延

C.液相外延

D.反相外延

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第10题

外延层杂质的分布主要受哪几种因素影响？

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第11题

外延掺杂的作用是()。

A.控制导电性质

B.弥补缺陷

C.形成过渡区域

D.控制外延层的电导率

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